Ultra-tajni projekat iz Kine koji bi mogao da promeni balans tehnološke i vojne moći globalno

Summary

Prema Reutersu, Kina radi na ultra-tajno EUV sistem litografije, razvijenom od bivših inženjera ASML-a, uz koordinaciju Huaweija. Prototip je završetkom 2025. godine i testira se u visoko bezbednom laboratoriju u Šenženu. Cilj projekta je da Kina jednog dana proizvodi napredne čipove potpuno na opremi proizvedenoj u Kini. Iako sistem radi i emituje ekstremno ultraljubičasto svetlo, još uvek nije proizveo funkcionalne čipove zbog tehničkih izazova sa preciznim optičkim sistemima. Vlada očekuje da bi cilj mogao biti dostignut do 2028–2030, što je ranije nego što su očekivali analitičari, i utiče na geopolitički balans.